ලේසර් වෛද්‍ය ප්‍රතිකාර සඳහා GaAs අධි බලැති epitaxial වේෆර් උපස්ථරය gallium arsenide වේෆර් බල ලේසර් තරංග ආයාමය 905nm
GaAs ලේසර් epitaxial පත්රයේ ප්රධාන ලක්ෂණ ඇතුළත් වේ:
1.අධි ඉලෙක්ට්‍රෝන සංචලතාව: Gallium arsenide හි ඉහළ ඉලෙක්ට්‍රෝන සංචලතාවක් ඇති අතර, එමගින් GaAs ලේසර් epitaxial වේෆර්වලට අධි-සංඛ්‍යාත උපාංගවල සහ අධිවේගී ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංගවල හොඳ යෙදුම් තිබේ.
2.Direct bandgap transition luminescence: direct bandgap ද්‍රව්‍යයක් ලෙස, gallium arsenide මගින් විද්‍යුත් ශක්තිය දෘශ්‍ය ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංගවල ආලෝක ශක්තිය බවට කාර්යක්ෂමව පරිවර්තනය කළ හැකි අතර, එය ලේසර් නිෂ්පාදනය සඳහා වඩාත් සුදුසු වේ.
3.තරංග ආයාමය: GaAs 905 ලේසර් සාමාන්‍යයෙන් 905 nm දී ක්‍රියා කරයි, ඒවා ජෛව වෛද්‍ය විද්‍යාව ඇතුළු බොහෝ යෙදුම් සඳහා සුදුසු වේ.
4.ඉහළ කාර්යක්ෂමතාව: ඉහළ ප්‍රකාශ විද්‍යුත් පරිවර්තන කාර්යක්ෂමතාවයක් සහිතව, එයට විද්‍යුත් ශක්තිය ඵලදායි ලෙස ලේසර් ප්‍රතිදානය බවට පරිවර්තනය කළ හැක.
5.High power output: එය අධි බල නිමැවුමක් ලබා ගත හැකි අතර ශක්තිමත් ආලෝක ප්‍රභවයක් අවශ්‍ය යෙදුම් අවස්ථා සඳහා සුදුසු වේ.
6.Good තාප කාර්ය සාධනය: GaAs ද්‍රව්‍ය හොඳ තාප සන්නායකතාවක් ඇති අතර, ලේසර් මෙහෙයුම් උෂ්ණත්වය අඩු කිරීමට සහ ස්ථායීතාව වැඩි දියුණු කිරීමට උපකාරී වේ.
7.පුළුල් සුසර කිරීමේ හැකියාව: විවිධ යෙදුම් අවශ්‍යතාවලට අනුවර්තනය වීමට ධාවකයේ ධාරාව වෙනස් කිරීමෙන් ප්‍රතිදාන බලය සකස් කළ හැක.
GaAs ලේසර් epitaxial ටැබ්ලට් වල ප්රධාන යෙදුම්වලට ඇතුළත් වන්නේ:
1. ප්‍රකාශ තන්තු සන්නිවේදනය: GaAs ලේසර් epitaxial පත්රය මගින් අධිවේගී සහ දිගු දුර ප්‍රකාශ සංඥා සම්ප්‍රේෂණය ලබා ගැනීම සඳහා දෘශ්‍ය තන්තු සන්නිවේදනයේ ලේසර් නිපදවීමට භාවිතා කළ හැක.
2. කාර්මික යෙදුම්: කාර්මික ක්ෂේත්‍රය තුළ, ලේසර් පරාසය, ලේසර් සලකුණු කිරීම සහ වෙනත් යෙදුම් සඳහා GaAs ලේසර් epitaxial තහඩු භාවිතා කළ හැක.
3. VCSEL: සිරස් කුහරය මතුපිට විමෝචක ලේසර් (VCSEL) යනු GaAs ලේසර් epitaxial පත්රයේ වැදගත් යෙදුම් ක්ෂේත්‍රයකි, එය දෘශ්‍ය සන්නිවේදනය, දෘශ්‍ය ගබඩා කිරීම සහ දෘශ්‍ය සංවේදනය සඳහා බහුලව භාවිතා වේ.
4. අධෝරක්ත කිරණ සහ ස්ථාන ක්ෂේත්‍රය: GaAs ලේසර් epitaxial පත්රය අධෝරක්ත ලේසර්, ස්ථාන ජනක යන්ත්‍ර සහ අනෙකුත් උපාංග නිෂ්පාදනය කිරීමට ද භාවිතා කළ හැකි අතර, අධෝරක්ත කිරණ හඳුනාගැනීම, ආලෝක සංදර්ශකය සහ අනෙකුත් ක්ෂේත්‍රවල වැදගත් කාර්යභාරයක් ඉටු කරයි.
GaAs ලේසර් epitaxial පත්රය සකස් කිරීම ප්රධාන වශයෙන් රඳා පවතින්නේ ලෝහ-කාබනික රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (MOCVD), අණුක කදම්භ epitaxial (MBE) සහ අනෙකුත් ක්රම ඇතුළුව epitaxial වර්ධන තාක්ෂණය මතය. උසස් තත්ත්වයේ GaAs ලේසර් epitaxial තහඩු ලබා ගැනීම සඳහා epitaxial ස්ථරයේ ඝනකම, සංයුතිය සහ ස්ඵටික ව්යුහය නිවැරදිව පාලනය කිරීමට මෙම ශිල්පීය ක්රමවලට හැකිය.
XKH විසින් විවිධ ව්‍යුහයන් සහ ඝනකම ඇති GaAs epitaxial පත්‍ර අභිරුචිකරණයන් ඉදිරිපත් කරයි, දෘශ්‍ය සන්නිවේදනය, VCSEL, අධෝරක්ත සහ සැහැල්ලු ස්ථාන ක්ෂේත්‍රවල පුළුල් පරාසයක යෙදුම් ආවරණය කරයි. XKH හි නිෂ්පාදන උසස් කාර්ය සාධනය සහ විශ්වසනීයත්වය සහතික කිරීම සඳහා උසස් MOCVD උපකරණ සමඟ නිෂ්පාදනය කර ඇත. ලොජිස්ටික්ස් සම්බන්ධයෙන් ගත් කල, XKH සතුව පුළුල් පරාසයක ජාත්‍යන්තර මූලාශ්‍ර නාලිකා ඇත, එමඟින් ඇණවුම් ගණන නම්‍යශීලීව හැසිරවිය හැකි අතර පිරිපහදු කිරීම සහ අනුබෙදුම වැනි අගය එකතු කළ සේවාවන් සපයයි. කාර්යක්ෂම බෙදා හැරීමේ ක්‍රියාවලීන් නියමිත වේලාවට බෙදා හැරීම සහතික කරන අතර ගුණාත්මකභාවය සහ බෙදා හැරීමේ වේලාවන් සඳහා පාරිභෝගික අවශ්‍යතා සපුරාලයි. භාණ්ඩය සුමට ලෙස භාවිතයට ගැනීම සහතික කිරීම සඳහා පාරිභෝගිකයින්ට පැමිණීමෙන් පසු පුළුල් තාක්ෂණික සහාය සහ අලෙවියෙන් පසු සේවාව ලබා ගත හැකිය.
විස්තරාත්මක රූප සටහන
