LiNbO₃ වේෆර් 2inch-8inch ඝණකම 0.1 ~ 0.5mm TTV 3µm අභිරුචි

කෙටි විස්තරය:

LiNbO₃ වේෆර්, ඒකාබද්ධ ෆෝටෝනික්ස් සහ නිරවද්‍ය ධ්වනි විද්‍යාවේ රන් ප්‍රමිතිය නියෝජනය කරන අතර, නවීන දෘෂ්ටි ඉලෙක්ට්‍රොනික පද්ධතිවල අසමසම කාර්ය සාධනයක් ලබා දෙයි. ප්‍රමුඛ නිෂ්පාදකයෙකු ලෙස, අපි 50/cm² ට අඩු දෝෂ සහිත ඝනත්වයකින් කර්මාන්තයේ ප්‍රමුඛ ස්ඵටික පරිපූර්ණත්වය අත්කර ගනිමින්, උසස් වාෂ්ප ප්‍රවාහන සමතුලිතතා ශිල්පීය ක්‍රම හරහා මෙම ඉංජිනේරු උපස්ථර නිෂ්පාදනය කිරීමේ කලාව පරිපූර්ණ කර ඇත්තෙමු.

XKH නිෂ්පාදන හැකියාවන් විෂ්කම්භය 75mm සිට 150mm දක්වා විහිදෙන අතර, නිරවද්‍ය දිශානති පාලනය (X/Y/Z-cut ±0.3°) සහ දුර්ලභ-පෘථිවි මූලද්‍රව්‍ය ඇතුළුව විශේෂිත මාත්‍රණ විකල්ප ඇත. LiNbO₃ වේෆර්වල ඇති ගුණාංගවල අද්විතීය සංයෝජනය - ඒවායේ කැපී පෙනෙන r₃₃ සංගුණකය (32±2 pm/V) සහ ආසන්න-UV සිට මැද-IR දක්වා පුළුල් විනිවිදභාවය ඇතුළුව - ඒවා ඊළඟ පරම්පරාවේ ෆෝටෝනික් පරිපථ සහ අධි-සංඛ්‍යාත ධ්වනි උපාංග සඳහා අත්‍යවශ්‍ය වේ.

අපට විද්‍යුත් තැපෑල එවන්න

විශේෂාංග

තාක්ෂණික පරාමිතීන්

ද්රව්ය	දෘශ්‍ය ශ්‍රේණියේ LiNbO3 වේෆ්ස්
කියුරි ටෙම්ප්	1142±2.0℃
කැපුම් කෝණය	X/Y/Z ආදිය
විෂ්කම්භය/ප්‍රමාණය	2"/3"/4"/6"/8"
ටොල්(±)	<0.20 මි.මී.
ඝනකම	0.1 ~ 0.5mm හෝ ඊට වැඩි
ප්‍රාථමික මහල් නිවාසය	16මි.මී./22මි.මී. /32මි.මී.
ටීටීවී	<3µමී
දුන්න	-30 යනු කුමක්ද?
වෝර්ප්	<40µමී
පැතලි දිශානතිය	සියල්ල තිබේ
මතුපිට වර්ගය	තනි පැත්ත ඔප දැමූ / ද්විත්ව පැති ඔප දැමූ
ඔප දැමූ පැත්ත Ra	<0.5nm
එස්/ඩී	20/10
දාර නිර්ණායක	R=0.2mm හෝ බුල්නෝස්
දෘශ්‍ය මාත්‍රණය	දෘශ්‍ය ශ්‍රේණියේ LN< වේෆර් සඳහා Fe/Zn/MgO ආදිය
වේෆර් මතුපිට නිර්ණායක	වර්තන දර්ශකය	අංක=2.2878/Ne=2.2033 @632nm තරංග ආයාමය
	දූෂණය,	කිසිවක් නැත
	අංශු ￠>0.3 µ m	<= 30
	සීරීම්, චිපින්	කිසිවක් නැත
	දෝෂය	දාර ඉරිතැලීම්, සීරීම්, කියත් සලකුණු, පැල්ලම් නොමැත.
ඇසුරුම්කරණය	ප්‍රමාණය/වේෆර් පෙට්ටිය	පෙට්ටියකට කෑලි 25ක්

අපගේ LiNbO₃ වේෆර්වල මූලික ගුණාංග

1. ෆොටෝනික් කාර්ය සාධන ලක්ෂණ

අපගේ LiNbO₃ වේෆර්, ක්වොන්ටම් ෆෝටෝනික්ස් සඳහා තීරණාත්මක කාර්යක්ෂම තරංග ආයාම පරිවර්තන ක්‍රියාවලීන් සක්‍රීය කරමින්, රේඛීය නොවන දෘශ්‍ය සංගුණක 42 pm/V දක්වා ළඟා වන අසාමාන්‍ය ආලෝක-පදාර්ථ අන්තර්ක්‍රියා හැකියාවන් ප්‍රදර්ශනය කරයි. උපස්ථර 320-5200nm හරහා >72% සම්ප්‍රේෂණය පවත්වා ගෙන යන අතර, විශේෂයෙන් නිර්මාණය කරන ලද අනුවාදයන් ටෙලිකොම් තරංග ආයාමවලදී <0.2dB/cm ප්‍රචාරණ අලාභයක් ලබා ගනී.

2.ධ්වනි තරංග ඉංජිනේරු විද්‍යාව

අපගේ LiNbO₃ වේෆර්වල ස්ඵටිකරූපී ව්‍යුහය 3800 m/s ඉක්මවන මතුපිට තරංග ප්‍රවේග සඳහා සහය දක්වයි, එමඟින් 12GHz දක්වා අනුනාදක ක්‍රියාකාරිත්වයට ඉඩ සලසයි. අපගේ හිමිකාර ඔප දැමීමේ ශිල්පීය ක්‍රම මඟින් ±15ppm/°C තුළ උෂ්ණත්ව ස්ථායිතාව පවත්වා ගනිමින් 1.2dB ට අඩු ඇතුළු කිරීමේ පාඩු සහිත මතුපිට ධ්වනි තරංග (SAW) උපාංග ලබා දෙයි.

3.පාරිසරික ඔරොත්තු දීමේ හැකියාව

ආන්තික තත්වයන්ට ඔරොත්තු දෙන පරිදි නිර්මාණය කර ඇති අපගේ LiNbO₃ වේෆර්, ක්‍රයොජනික් උෂ්ණත්වයේ සිට 500°C මෙහෙයුම් පරිසරයන් දක්වා ක්‍රියාකාරීත්වය පවත්වා ගනී. ද්‍රව්‍යය සැලකිය යුතු කාර්ය සාධන පිරිහීමකින් තොරව මිලියන 1 කට වඩා වැඩි මුළු අයනීකරණ මාත්‍රාවකට ඔරොත්තු දෙන සුවිශේෂී විකිරණ දෘඪතාව පෙන්නුම් කරයි.

4.යෙදුම්-විශේෂිත වින්‍යාසයන්

අපි පහත සඳහන් දෑ ඇතුළුව වසම්-ඉංජිනේරු ප්‍රභේද පිරිනමන්නෙමු:
5-50μm වසම් කාල පරිච්ඡේද සහිත කාලානුරූපව ධ්‍රැව කරන ලද ව්‍යුහයන්
දෙමුහුන් අනුකලනය සඳහා අයන පෙති කපන ලද තුනී පටල
විශේෂිත යෙදුම් සඳහා මෙටා ද්‍රව්‍ය-වැඩිදියුණු කළ අනුවාද

LiNbO₃ වේෆර් සඳහා ක්‍රියාත්මක කිරීමේ අවස්ථා

1. ඊළඟ පරම්පරාවේ දෘශ්‍ය ජාල
LiNbO₃ වේෆර්, ටෙරාබිට් පරිමාණ දෘශ්‍ය සම්ප්‍රේෂක සඳහා කොඳු නාරටිය ලෙස සේවය කරන අතර, උසස් කැදැලි මොඩියුලේටර් සැලසුම් හරහා 800Gbps සහසම්බන්ධ සම්ප්‍රේෂණය සක්‍රීය කරයි. AI/ML ත්වරණකාරක පද්ධතිවල සම-ඇසුරුම් කළ දෘශ්‍ය ක්‍රියාත්මක කිරීම් සඳහා අපගේ උපස්ථර වැඩි වැඩියෙන් යොදා ගැනේ.
2.6G RF ඉදිරිපස අන්ත
නවතම පරම්පරාවේ LiNbO₃ Wafers, නැගී එන 6G ප්‍රමිතීන්ගේ වර්ණාවලි අවශ්‍යතා සපුරාලමින් 20GHz දක්වා අතිශය පුළුල් කලාප පෙරීමට සහය දක්වයි. අපගේ ද්‍රව්‍ය 2000 ඉක්මවන Q සාධක සහිත නව ධ්වනි අනුනාදක ගෘහ නිර්මාණ ශිල්පය සක්‍රීය කරයි.
3.ක්වොන්ටම් තොරතුරු පද්ධති
නිරවද්‍ය-පොලිෂ් කරන ලද LiNbO₃ වේෆර්, >90% යුගල උත්පාදන කාර්යක්ෂමතාවයක් සහිත පැටලී ඇති ෆෝටෝන ප්‍රභවයන් සඳහා පදනම සාදයි. අපගේ උපස්ථර ෆෝටෝනික් ක්වොන්ටම් පරිගණනය සහ ආරක්ෂිත සන්නිවේදන ජාලවල ඉදිරි ගමනක් සක්‍රීය කරයි.
4.උසස් සංවේදන විසඳුම්
1550nm හි ක්‍රියාත්මක වන මෝටර් රථ LiDAR සිට අතිශය සංවේදී ගුරුත්වාකර්ෂණ සංවේදක දක්වා, LiNbO₃ වේෆර් තීරණාත්මක සම්ප්‍රේෂණ වේදිකාව සපයයි. අපගේ ද්‍රව්‍ය තනි අණු හඳුනාගැනීමේ මට්ටම් දක්වා සංවේදක විභේදන සක්‍රීය කරයි.

LiNbO₃වේෆර් වල ප්‍රධාන වාසි

1. අසමසම විද්‍යුත්-දෘශ්‍ය කාර්ය සාධනය
සුවිශේෂී ලෙස ඉහළ විද්‍යුත්-දෘශ්‍ය සංගුණකය (r₃₃~30-32 pm/V): වාණිජ ලිතියම් නියෝබේට් වේෆර් සඳහා කර්මාන්ත මිණුම් ලකුණ නියෝජනය කරයි, සිලිකන් මත පදනම් වූ හෝ පොලිමර් ද්‍රාවණවල කාර්ය සාධන සීමාවන් බෙහෙවින් ඉක්මවා යන 200Gbps+ අධිවේගී දෘශ්‍ය මොඩියුලේටර් සක්‍රීය කරයි.

අතිශය අඩු ඇතුළත් කිරීමේ අලාභය (<0.1 dB/cm): නැනෝ පරිමාණ ඔප දැමීම (Ra<0.3 nm) සහ ප්‍රති-පරාවර්තන (AR) ආලේපන හරහා ලබා ගන්නා ලද අතර, දෘශ්‍ය සන්නිවේදන මොඩියුලවල ශක්ති කාර්යක්ෂමතාව සැලකිය යුතු ලෙස වැඩි දියුණු කරයි.

2. උසස් පීසෝ ඉලෙක්ට්‍රික් සහ ධ්වනි ගුණාංග
අධි-සංඛ්‍යාත SAW/BAW උපාංග සඳහා වඩාත් සුදුසුය: 3500-3800 m/s ධ්වනි ප්‍රවේග සහිතව, මෙම වේෆර් 6G mmWave (24-100 GHz) පෙරහන් සැලසුම් සඳහා සහය දක්වයි, ඇතුළත් කිරීමේ පාඩු <1.0 dB වේ.

ඉහළ විද්‍යුත් යාන්ත්‍රික සම්බන්ධක සංගුණකය (K²~0.25%): RF ඉදිරිපස සංරචකවල කලාප පළල සහ සංඥා තේරීම වැඩි දියුණු කරයි, ඒවා 5G/6G මූලික ස්ථාන සහ චන්ද්‍රිකා සන්නිවේදනය සඳහා සුදුසු වේ.

3. පුළුල් පරාස විනිවිදභාවය සහ රේඛීය නොවන දෘශ්‍ය බලපෑම්
අතිශය පුළුල් දෘශ්‍ය සම්ප්‍රේෂණ කවුළුව (350-5000 nm): UV සිට මැද-IR වර්ණාවලි ආවරණය කරයි, එවැනි යෙදුම් සක්‍රීය කරයි:

ක්වොන්ටම් ප්‍රකාශ විද්‍යාව: කාලානුරූපව ධ්‍රැවීකරණය කරන ලද (PPLN) වින්‍යාසයන් පැටලී ඇති ෆෝටෝන යුගල උත්පාදනයේදී 90% ට වැඩි කාර්යක්ෂමතාවයක් ලබා ගනී.

ලේසර් පද්ධති: දෘශ්‍ය පරාමිතික දෝලනය (OPO) සුසර කළ හැකි තරංග ආයාම ප්‍රතිදානය (1-10 μm) ලබා දෙයි.

සුවිශේෂී ලේසර් හානි සීමාව (>1 GW/cm²): අධි බලැති ලේසර් යෙදුම් සඳහා දැඩි අවශ්‍යතා සපුරාලයි.

4. අතිශය පාරිසරික ස්ථාවරත්වය
ඉහළ උෂ්ණත්ව ප්‍රතිරෝධය (කියුරි ලක්ෂ්‍යය: 1140°C): -200°C සිට +500°C දක්වා ස්ථාවර කාර්ය සාධනයක් පවත්වා ගනී, සුදුසු වන්නේ:

වාහන ඉලෙක්ට්‍රොනික උපකරණ (එන්ජින් මැදිරි සංවේදක)

අභ්‍යවකාශ යානා (ගැඹුරු-අභ්‍යවකාශ දෘශ්‍ය සංරචක)

විකිරණ දෘඪතාව (>1 Mrad TID): MIL-STD-883 ප්‍රමිතීන්ට අනුකූල, න්‍යෂ්ටික සහ ආරක්ෂක ඉලෙක්ට්‍රොනික උපකරණ සඳහා සුදුසු වේ.

5. අභිරුචිකරණය සහ ඒකාබද්ධ කිරීමේ නම්‍යශීලීභාවය
ස්ඵටික දිශානතිය සහ මාත්‍රණ ප්‍රශස්තිකරණය:

X/Y/Z-කැපුම් වේෆර් (± 0.3° නිරවද්‍යතාවය)

වැඩි දියුණු කළ දෘශ්‍ය හානි ප්‍රතිරෝධය සඳහා MgO මාත්‍රණය (5 mol%)

විෂමජාතීය ඒකාබද්ධතා සහාය:

සිලිකන් ෆෝටෝනික්ස් (SiPh) සමඟ දෙමුහුන් ඒකාබද්ධ කිරීම සඳහා තුනී පටල LiNbO₃-on-Insulator (LNOI) සමඟ අනුකූල වේ.

සම-ඇසුරුම් කළ ප්‍රකාශ විද්‍යාව (CPO) සඳහා වේෆර් මට්ටමේ බන්ධනය සක්‍රීය කරයි.

6. පරිමාණය කළ හැකි නිෂ්පාදනය සහ පිරිවැය කාර්යක්ෂමතාව
අඟල් 6 (මි.මී. 150) වේෆර් ස්කන්ධ නිෂ්පාදනය: සාම්ප්‍රදායික අඟල් 4 ක්‍රියාවලි හා සසඳන විට ඒකක පිරිවැය 30% කින් අඩු කරයි.

වේගවත් බෙදාහැරීම: සම්මත නිෂ්පාදන සති 3 කින් නැව්ගත කෙරේ; කුඩා කාණ්ඩ මූලාකෘති (අවම වශයෙන් වේෆර් 5) දින 10 කින් ලබා දේ.

XKH සේවා

1. ද්‍රව්‍ය නවෝත්පාදන රසායනාගාරය
අපගේ ස්ඵටික වර්ධන විශේෂඥයින් යෙදුම්-විශේෂිත LiNbO₃ වේෆර් සූත්‍රගත කිරීම් සංවර්ධනය කිරීම සඳහා සේවාදායකයින් සමඟ සහයෝගයෙන් කටයුතු කරයි, ඒවාට ඇතුළත් වන්නේ:

අඩු දෘශ්‍ය අලාභ ප්‍රභේද (<0.05dB/cm)

අධි බල හැසිරවීමේ වින්‍යාසයන්

විකිරණවලට ඔරොත්තු දෙන සංයුති

2. වේගවත් මූලාකෘති නල මාර්ගය
නිර්මාණයේ සිට බෙදා හැරීම දක්වා ව්‍යාපාරික දින 10 කින්:

අභිරුචි දිශානති වේෆර්

රටා සහිත ඉලෙක්ට්‍රෝඩ

පූර්ව-ලක්ෂණගත සාම්පල

3. කාර්ය සාධන සහතික කිරීම
සෑම LiNbO₃ වේෆර් නැව්ගත කිරීමකටම ඇතුළත් වන්නේ:

සම්පූර්ණ වර්ණාවලීක්ෂ ලක්ෂණකරණය

ස්ඵටික විද්‍යාත්මක දිශානතිය සත්‍යාපනය

මතුපිට තත්ත්ව සහතික කිරීම

4. සැපයුම් දාම සහතිකය