අධි පරිමාමිතික අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදනය සඳහා අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර්

කෙටි විස්තරය:

අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆරය නිර්මාණය කර ඇත්තේ විශාල ප්‍රදේශයක, ඉහළ ප්‍රතිදාන අර්ධ සන්නායක සහ දෘශ්‍ය ඉලෙක්ට්‍රොනික නිෂ්පාදනය සඳහා වැඩිවන ඉල්ලුම සපුරාලීම සඳහා ය. උපාංග ගෘහ නිර්මාණ ශිල්පය අඛණ්ඩව පරිමාණය වන විට සහ නිෂ්පාදන රේඛා විශාල වේෆර් ආකෘති දෙසට ගමන් කරන විට, අතිශය විශාල විෂ්කම්භයක් සහිත නිල් මැණික් උපස්ථර ඵලදායිතාව, අස්වැන්න ප්‍රශස්තිකරණය සහ පිරිවැය පාලනය සම්බන්ධයෙන් පැහැදිලි වාසි ලබා දෙයි.

අපට විද්‍යුත් තැපෑල එවන්න

විශේෂාංග

විස්තරාත්මක රූප සටහන

අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් හඳුන්වාදීම

ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් තනි-ස්ඵටික Al₂O₃ වලින් නිෂ්පාදනය කරන ලද අපගේ අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් විශිෂ්ට යාන්ත්‍රික ශක්තිය, තාප ස්ථායිතාව සහ මතුපිට ගුණාත්මකභාවය ඒකාබද්ධ කරයි. ප්‍රශස්ත ස්ඵටික වර්ධනය සහ නිරවද්‍ය වේෆර් සැකසුම් හරහා, මෙම උපස්ථර උසස් LED, GaN සහ විශේෂ අර්ධ සන්නායක යෙදුම් සඳහා විශ්වාසදායක කාර්ය සාධනයක් ලබා දෙයි.

ද්‍රව්‍ය ලක්ෂණ

නිල් මැණික් (තනි-ස්ඵටික ඇලුමිනියම් ඔක්සයිඩ්, Al₂O₃) එහි කැපී පෙනෙන භෞතික හා රසායනික ගුණාංග සඳහා ප්‍රසිද්ධය. අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර්, භාවිතා කළ හැකි විශාල මතුපිට ප්‍රදේශයක් සපයන අතරම නිල් මැණික් ද්‍රව්‍යයේ සියලු වාසි උරුම කර ගනී.

ප්‍රධාන ද්‍රව්‍යමය ලක්ෂණ අතර:

ඉතා ඉහළ දෘඪතාව සහ ඇඳුම් ප්‍රතිරෝධය
විශිෂ්ට තාප ස්ථායිතාව සහ ඉහළ ද්‍රවාංකය
අම්ල සහ ක්ෂාර වලට උසස් රසායනික ප්‍රතිරෝධයක්
UV සිට IR තරංග ආයාම දක්වා ඉහළ දෘශ්‍ය විනිවිදභාවය
විශිෂ්ට විදුලි පරිවාරක ගුණාංග

මෙම ලක්ෂණ නිසා අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් කටුක සැකසුම් පරිසරයන් සහ ඉහළ උෂ්ණත්ව අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලීන් සඳහා සුදුසු වේ.

නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලිය

අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් නිෂ්පාදනය සඳහා දියුණු ස්ඵටික වර්ධනය සහ අතිශය නිරවද්‍ය සැකසුම් තාක්ෂණයන් අවශ්‍ය වේ. සාමාන්‍ය නිෂ්පාදන ක්‍රියාවලියට ඇතුළත් වන්නේ:

තනි ස්ඵටික වර්ධනය
අධි-සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් නිල් මැණික් ස්ඵටික KY හෝ වෙනත් විශාල-විෂ්කම්භය ස්ඵටික වර්ධන තාක්ෂණයන් වැනි දියුණු ක්‍රම භාවිතයෙන් වගා කරනු ලබන අතර, ඒකාකාර ස්ඵටික දිශානතිය සහ අඩු අභ්‍යන්තර ආතතිය සහතික කරයි.
ස්ඵටික හැඩගැන්වීම සහ පෙති කැපීම
භූගත හානිය අවම කිරීම සඳහා ඉහළ නිරවද්‍යතාවයකින් යුත් කැපුම් උපකරණ භාවිතයෙන් නිල් මැණික් කුට්ටිය නිශ්චිතවම හැඩගස්වා අඟල් 12 වේෆර් වලට කපා ඇත.
ලැපින් කිරීම සහ ඔප දැමීම
විශිෂ්ට මතුපිට රළුබව, සමතලා බව සහ ඝනකම ඒකාකාරිත්වය ලබා ගැනීම සඳහා බහු-පියවර ලැපින් සහ රසායනික යාන්ත්‍රික ඔප දැමීමේ (CMP) ක්‍රියාවලීන් යොදනු ලැබේ.
පිරිසිදු කිරීම සහ පරීක්ෂා කිරීම
සෑම අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆරයක්ම මතුපිට ගුණාත්මකභාවය, TTV, දුන්න, වෝර්ප් සහ දෝෂ විශ්ලේෂණය ඇතුළුව හොඳින් පිරිසිදු කිරීම සහ දැඩි පරීක්ෂාවකට භාජනය වේ.

අයදුම්පත්

අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර්, දියුණු සහ නැගී එන තාක්ෂණයන්හි බහුලව භාවිතා වේ, ඒවා අතර:

අධි බලැති සහ අධි දීප්තියේ LED උපස්ථර
GaN-පාදක බල උපාංග සහ RF උපාංග
අර්ධ සන්නායක උපකරණ වාහක සහ පරිවාරක උපස්ථර
දෘශ්‍ය කවුළු සහ විශාල ප්‍රදේශ දෘශ්‍ය සංරචක
උසස් අර්ධ සන්නායක ඇසුරුම් සහ විශේෂ ක්‍රියාවලි වාහක

විශාල විෂ්කම්භය මහා පරිමාණ නිෂ්පාදනයේදී ඉහළ ප්‍රතිදානයක් සහ වැඩිදියුණු කළ පිරිවැය කාර්යක්ෂමතාවයක් ලබා දෙයි.

අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් වල වාසි

වේෆරයකට ඉහළ උපාංග ප්‍රතිදානයක් සඳහා විශාල භාවිත කළ හැකි ප්‍රදේශයක්
ක්‍රියාවලි අනුකූලතාව සහ ඒකාකාරිත්වය වැඩිදියුණු කිරීම
ඉහළ පරිමාවකින් යුත් නිෂ්පාදනයේදී උපාංගයකට පිරිවැය අඩු වීම
විශාල ප්‍රමාණයේ හැසිරවීම සඳහා විශිෂ්ට යාන්ත්‍රික ශක්තියක්
විවිධ යෙදුම් සඳහා අභිරුචිකරණය කළ හැකි පිරිවිතර

අභිරුචිකරණ විකල්ප

අපි අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් සඳහා නම්‍යශීලී අභිරුචිකරණයක් පිරිනමන්නෙමු, ඒවා අතර:

ස්ඵටික දිශානතිය (C-තලය, A-තලය, R-තලය, ආදිය)
ඝණකම සහ විෂ්කම්භය ඉවසීම
තනි-පාර්ශ්වික හෝ ද්විත්ව-පාර්ශ්වික ඔප දැමීම
දාර පැතිකඩ සහ චැම්ෆර් නිර්මාණය
මතුපිට රළුබව සහ සමතලාභාවය සඳහා අවශ්‍යතා

පරාමිතිය	පිරිවිතර	සටහන්
වේෆර් විෂ්කම්භය	අඟල් 12 (මි.මී. 300)	සම්මත විශාල විෂ්කම්භයක් සහිත වේෆර්
ද්රව්ය	තනි-ස්ඵටික නිල් මැණික් (Al₂O₃)	ඉහළ සංශුද්ධතාවය, ඉලෙක්ට්‍රොනික/දෘශ්‍ය ශ්‍රේණිය
ස්ඵටික දිශානතිය	C-තලය (0001), A-තලය (11-20), R-තලය (1-102)	විකල්ප දිශානති තිබේ
ඝනකම	430–500 මයික්‍රෝමීටර	ඉල්ලීම මත අභිරුචි ඝණකම ලබා ගත හැකිය
ඝනකම ඉවසීම	±10 μm	දියුණු උපාංග සඳහා දැඩි ඉවසීම
මුළු ඝනකම විචලනය (TTV)	≤10 μm	වේෆර් හරහා ඒකාකාර සැකසුම් සහතික කරයි
දුන්න	≤50 μm	මුළු වේෆරය පුරාම මනින ලදී
වෝර්ප්	≤50 μm	මුළු වේෆරය පුරාම මනින ලදී
මතුපිට නිමාව	තනි-පැති ඔප දැමූ (SSP) / ද්විත්ව-පැති ඔප දැමූ (DSP)	ඉහළ දෘශ්‍ය ගුණාත්මක මතුපිටක්
මතුපිට රළුබව (Ra)	≤0.5 nm (ඔප දැමූ)	එපිටැක්සියල් වර්ධනය සඳහා පරමාණුක මට්ටමේ සුමටතාවය
දාර පැතිකඩ	චැම්ෆර් / වටකුරු දාරය	හැසිරවීමේදී කැඩී යාම වැළැක්වීම සඳහා
දිශානති නිරවද්‍යතාවය	±0.5°	නිසි එපිටැක්සියල් ස්ථර වර්ධනය සහතික කරයි
දෝෂ ඝනත්වය	<10 සෙ.මී.⁻²	දෘශ්‍ය පරීක්ෂාව මගින් මනිනු ලැබේ
පැතලි බව	≤2 μm / 100 මි.මී.	ඒකාකාර ලිතෝග්‍රැෆි සහ එපිටැක්සියල් වර්ධනය සහතික කරයි.
පිරිසිදුකම	100 පන්තිය – 1000 පන්තිය	පිරිසිදු කාමරයට අනුකූලයි
දෘශ්‍ය සම්ප්‍රේෂණය	>85% (UV–IR)	තරංග ආයාමය සහ ඝණකම මත රඳා පවතී

අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් නිතර අසන ප්‍රශ්න

Q1: අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆරයක සම්මත ඝනකම කුමක්ද?
A: සම්මත ඝණකම 430 μm සිට 500 μm දක්වා පරාසයක පවතී.පාරිභෝගික අවශ්‍යතා අනුව අභිරුචි ඝණකම ද නිෂ්පාදනය කළ හැකිය.

Q2: අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර් සඳහා ලබා ගත හැකි ස්ඵටික දිශානති මොනවාද?
A: අපි C-තලය (0001), A-තලය (11-20), සහ R-තලය (1-102) දිශානති පිරිනමන්නෙමු. නිශ්චිත උපාංග අවශ්‍යතා මත පදනම්ව අනෙකුත් දිශානති අභිරුචිකරණය කළ හැකිය.

Q3: වේෆරයේ මුළු ඝනකම විචලනය (TTV) කොපමණද?
A: අපගේ අඟල් 12 නිල් මැණික් වේෆර්වල සාමාන්‍යයෙන් TTV ≤10 μm ඇති අතර, උසස් තත්ත්වයේ උපාංග නිෂ්පාදනය සඳහා මුළු වේෆර් මතුපිට පුරා ඒකාකාරිත්වය සහතික කරයි.

අපි ගැන

XKH විශේෂ දෘශ්‍ය වීදුරු සහ නව ස්ඵටික ද්‍රව්‍යවල අධි තාක්‍ෂණික සංවර්ධනය, නිෂ්පාදනය සහ අලෙවිය සඳහා විශේෂඥතාවයක් දක්වයි. අපගේ නිෂ්පාදන දෘශ්‍ය ඉලෙක්ට්‍රොනික උපකරණ, පාරිභෝගික ඉලෙක්ට්‍රොනික උපකරණ සහ හමුදාව සඳහා සේවය කරයි. අපි Sapphire දෘශ්‍ය සංරචක, ජංගම දුරකථන කාච ආවරණ, සෙරමික්, LT, සිලිකන් කාබයිඩ් SIC, ක්වාර්ට්ස් සහ අර්ධ සන්නායක ස්ඵටික වේෆර් පිරිනමන්නෙමු. දක්ෂ විශේෂඥතාව සහ අති නවීන උපකරණ සමඟින්, ප්‍රමුඛ පෙළේ දෘශ්‍ය ඉලෙක්ට්‍රොනික ද්‍රව්‍ය අධි තාක්‍ෂණික ව්‍යවසායයක් වීම අරමුණු කරගනිමින්, අපි සම්මත නොවන නිෂ්පාදන සැකසීමේ විශිෂ්ටත්වය අත්කර ගනිමු.