4H-semi HPSI අඟල් 2 SiC උපස්ථර වේෆර් නිෂ්පාදන ව්‍යාජ පර්යේෂණ ශ්‍රේණිය

සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථරය ප්‍රධාන වශයෙන් සන්නායක සහ අර්ධ පරිවාරක වර්ගයට බෙදා ඇත, සන්නායක සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථරය n-වර්ගයේ උපස්ථරය ප්‍රධාන වශයෙන් epitaxial GaN මත පදනම් වූ LED සහ අනෙකුත් දෘශ්‍ය ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග, SiC මත පදනම් වූ බල ඉලෙක්ට්‍රොනික උපාංග ආදිය සඳහා සහ අර්ධ- SiC සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථරය පරිවරණය කිරීම ප්‍රධාන වශයෙන් GaN අධි බලැති රේඩියෝ සංඛ්‍යාත උපාංගවල epitaxial නිෂ්පාදනය සඳහා භාවිතා වේ.මීට අමතරව ඉහළ සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් අර්ධ පරිවාරක HPSI සහ SI අර්ධ පරිවරණය වෙනස් වේ, ඉහළ ඉලෙක්ට්‍රෝන සංචලනය සහිත 3.5 * 1013 ~ 8 * 1015/cm3 පරාසයක ඉහළ සංශුද්ධතාවය අර්ධ පරිවාරක වාහක සාන්ද්‍රණය;අර්ධ-පරිවරණ යනු අධි-ප්‍රතිරෝධක ද්‍රව්‍යයකි, ප්‍රතිරෝධය ඉතා ඉහළය, සාමාන්‍යයෙන් මයික්‍රෝවේව් උපාංග උපස්ථර සඳහා භාවිතා වේ, සන්නායක නොවන.

අර්ධ පරිවාරක සිලිකන් කාබයිඩ් උපස්ථර පත්රය SiC වේෆර්

Si සහ GaAs වලට සාපේක්ෂව SiC ස්ඵටික ව්‍යුහය එහි භෞතික නිර්ණය කරයි, භෞතික ගුණාංග සඳහා SiC සතුව ඇත;දිගුකාලීන විශ්වසනීයත්වය යටතේ උපාංගය ඉහළ උෂ්ණත්වවලදී ක්‍රියා කරන බව සහතික කිරීම සඳහා තහනම් කලාප පළල විශාලයි, Si මෙන් 3 ගුණයකට ආසන්නය;බිඳවැටීමේ ක්ෂේත්‍ර ශක්තිය ඉහළයි, එය Si මෙන් 1O ගුණයක් වේ, උපාංගයේ වෝල්ටීයතා ධාරිතාව, උපාංග වෝල්ටීයතා අගය වැඩි දියුණු කිරීම සහතික කිරීම;උපාංගයේ සංඛ්‍යාතය සහ බල ඝණත්වය වැඩි කිරීම සඳහා සන්තෘප්ත ඉලෙක්ට්‍රෝන අනුපාතය විශාලයි, Si මෙන් 2 ගුණයක් වේ;තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි, Si ට වඩා වැඩි, තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි, තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි, තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි, තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි, Si ට වඩා වැඩි, තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි, තාප සන්නායකතාවය ඉහළයි.ඉහළ තාප සන්නායකතාව, Si මෙන් 3 ගුණයකට වඩා වැඩි, උපාංගයේ තාප පරිවභෝජන ධාරිතාව වැඩි කිරීම සහ උපාංගයේ කුඩා කිරීම අවබෝධ කර ගැනීම.