ටයිටේනියම් මාත්‍රණය කළ නිල් මැණික් ස්ඵටික ලේසර් දඬු මතුපිට සැකසුම් ක්‍රමය

ටයිටේනියම් මැණික් ස්ඵටික Ti:Al2O3 (උද්‍යුත්කරණ සාන්ද්‍රණය 0.35 wt% Ti2O3), වර්තමාන සොයාගැනීමේ ටයිටේනියම් මැණික් ස්ඵටික ලේසර් දණ්ඩේ මතුපිට සැකසුම් ක්‍රමයේ ක්‍රියාවලි ප්‍රවාහ රූප සටහනට අනුව ඇති ස්ඵටික හිස් තැන් 1 හි පෙන්වා ඇත. වර්තමාන නව නිපැයුමේ ටයිටේනියම් මැණික් ස්ඵටික ලේසර් සැරයටියේ මතුපිට සැකසුම් ක්‍රමයේ නිශ්චිත සකස් කිරීමේ පියවර පහත පරිදි වේ:

<1> දිශානතිය කැපීම: ටයිටේනියම් මැණික් ස්ඵටිකය ප්‍රථමයෙන් දිශානුගත කර, පසුව සම්පූර්ණ කරන ලද ලේසර් දණ්ඩේ ප්‍රමාණයට අනුව 0.4 සිට 0.6 mm පමණ සැකසුම් දීමනාවක් තබමින් tetragonal තීරු හැඩැති හිස් තැනකට කපා ඇත.

<2>තීරු රළු සහ සියුම් ඇඹරීම: තීරු හිස් 120~180# සිලිකන් කාබයිඩ් හෝ බෝරෝන් කාබයිඩ් උල්ෙල්ඛ සමඟ රළු ඇඹරුම් යන්තයක් මත ටෙට්‍රාගෝන හෝ සිලින්ඩරාකාර හරස්කඩකට අඹරා ඇත. ± 0.01 මි.මී.

<3> අවසන් මුහුණ සැකසීම: ටයිටේනියම් මැණික් ගල් ලේසර් තීරුව වානේ තැටියේ W40, W20, W10 බෝරෝන් කාබයිඩ් ඇඹරුම් අවසන් මුහුණ සමඟ අනුක්‍රමිකව දෙඅං මුහුණු සැකසීම.ඇඹරුම් ක්රියාවලියේදී, අවසාන මුහුණෙහි සිරස් බව මැනීම සඳහා අවධානය යොමු කළ යුතුය.

<4> රසායනික-යාන්ත්‍රික ඔප දැමීම: රසායනික-යාන්ත්‍රික ඔප දැමීම යනු පෙර සැකසූ රසායනික කැටයම් ද්‍රාවණයකින් ඔප දැමීමේ පෑඩ් මත ස්ඵටික ඔප දැමීමේ ක්‍රියාවලියයි.සාපේක්ෂ චලිතය සහ ඝර්ෂණය සඳහා ඔප දැමීමේ වැඩ කොටස සහ ඔප දැමීමේ පෑඩ්, පර්යේෂණ පොහොර අඩංගු රසායනික කැටයම් කාරකය (ඔප දැමීමේ දියර ලෙස හැඳින්වේ) ආධාරයෙන් ඔප දැමීම සම්පූර්ණ කිරීම.

<5> අම්ල කැටයම් කිරීම: ඉහත විස්තර කර ඇති පරිදි ඔප දැමීමෙන් පසු ටයිටේනියම් මැණික් ගල් දඬු H2SO4:H3PO4 = 3:1 (v/v) මිශ්‍රණයකට 100-400°C උෂ්ණත්වයකදී දමා 5ක් සඳහා ඇසිඩ් කැටයම් කර ඇත. -මිනිත්තු 30 ක්.යාන්ත්‍රික උප-පෘෂ්ඨ හානි මගින් නිපදවන ලේසර් තීරුවේ මතුපිට ඔප දැමීමේ ක්‍රියාවලිය ඉවත් කිරීම සහ පිරිසිදු පෘෂ්ඨයේ පරමාණුක මට්ටමේ සිනිඳු සහ පැතලි, දැලිස් අඛණ්ඩතාව ලබා ගැනීම සඳහා විවිධ පැල්ලම් ඉවත් කිරීම මෙහි අරමුණයි. .

<6> පෘෂ්ඨීය තාප ප්‍රතිකාරය: පෙර ක්‍රියාවලිය හේතුවෙන් ඇති වූ මතුපිට ආතති සහ සීරීම් තවදුරටත් ඉවත් කර පරමාණුක මට්ටමින් සමතලා වූ මතුපිටක් ලබා ගැනීම සඳහා, අම්ල කැටයම් කිරීමෙන් පසු ටයිටේනියම් මැණික් ගල් සැරයටිය විනාඩි 5 ක් ඩියෝනීකරණය කළ ජලයෙන් සෝදා හරිනු ලැබේ. සහ ටයිටේනියම් මැණික් ගල් සැරයටිය හයිඩ්‍රජන් වායුගෝලයේ පැය 1 සිට 3 දක්වා නියත උෂ්ණත්වයකදී 1360±20° C. පරිසරයක තැන්පත් කර මතුපිට තාප පිරියම් කිරීමකට ලක් කරන ලදී.